Das Verfahren der Blitzlampentemperung eignet sich für vielfältigste Anwendungsgebiete, die von der Halbleitertechnologie, Glasbeschichtung bis hin zu innovativen Druckverfahren für die flexible Elektronik reichen.

Der Vorteil des Blitzlampentemperverfahrens besteht in der oberflächigen Aufheizung der Probe, ohne dass dabei das Substrat selbst erwärmt wird. 

Mit flexibel auf die Anwendung angepassten Anlagen erhalten Sie eine optimale Behandlung Ihrer Substrate.

Beispiel: FLA System zur Behandlung von 4" Wafern.

Der Vorteil des Blitzlampentemperverfahrens besteht weiterhin in der Kombination chemischer und thermischer Effekte. Ausserdem kann das Verfahren durch den Einsatz von Masken oder Filtern auch lokal eingesetzt werden und damit eine selektive thermische Behandlung erfolgen - ein wesentlicher Vorteil zu anderen konventionellen Temperverfahren.

Für den Einsatz im Bereich der Drucktechniken ermöglicht die Blitzlampentemperung sowohl Trocknungs- als auch Sinterprozesse.